深硅刻蚀机DSE
仪器型号北方华创 HES M200
预约次数0次
服务周期收到样品后15个工作日内完成
详细描述
技术参数：
适用于8英寸及以下Si片；深宽比≥30:1，PR胶选择比≥20:1，SiO2选择比≥30:1，侧壁垂直度90±0.5°。
功能介绍：
在Si片上或者SOI上刻蚀具有垂直侧壁的高深宽比的沟槽、孔、柱子。只用于刻蚀SI类材料，不得刻蚀含有或者带有金属物质的材料。
仪器型号北方华创 HES M200
预约次数0次
服务周期收到样品后15个工作日内完成
技术参数：
适用于8英寸及以下Si片；深宽比≥30:1，PR胶选择比≥20:1，SiO2选择比≥30:1，侧壁垂直度90±0.5°。
功能介绍：
在Si片上或者SOI上刻蚀具有垂直侧壁的高深宽比的沟槽、孔、柱子。只用于刻蚀SI类材料，不得刻蚀含有或者带有金属物质的材料。
