电子束蒸发薄膜沉积系统EBE

技术参数：

1、设备适用于最大6寸，可兼容6寸以下包括碎片；

2、适用于Lift-off工艺；

3、常见金属材料，如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al等皆可蒸镀；

4、镀膜均一性≤3% ；

5、Recipe可设置镀膜速率和目标膜厚；

6、机台配置6个15cc坩埚，一次可放置6种材料；

7、配有晶振膜厚仪，镀膜速率和膜厚时时显示，镀膜速率显示精度0.1A/s，膜厚显示精度1A；

8、配有扫描仪，可设置电子束扫描形状和频率等参数；

9、基片可旋转，转速设置范围0-20rpm；

10、腔体配自动进样室，进样室一次可放置6个6寸基片，成膜腔室一次成膜1片；

11、 进样室极限真空度≤5E-8 Torr，腔体极限真空度≤5E-9 Torr；

12、基片从送样室进入镀膜室后，镀膜室恢复原高真空的时间少于5分钟。

功能介绍：

电子束蒸镀主要用于金属材料的成膜， 金属材料如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al等皆可蒸镀，适用于Life-off工艺。